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ZEMAX軟件技術(shù)應用專題:如何在OpticStudio中設(shè)計DOE透鏡或超穎透鏡
許多設(shè)計過程需要兩種不同的光學理論/算法來分別處理
光束
在自由空間和微結(jié)構(gòu)中的傳播,而其他一些過程僅使用純光線追
跡
來達到目標。由於模擬技術(shù)發(fā)展迅速,因此本文可能沒有涵蓋所有可用方法。如果
用
戶提供新訊息或有任何要求,請隨時與我們聯(lián)繫,我們可以相
應
地更新本文。
2189
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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Zemax光學設(shè)計技術(shù)教程:如何使用Jones Matrix表面
在OpticStudio中,Jones Matrix表面可以
用
來表示偏振元件。這篇文章將提供一些使用上的範例。簡介偏振態(tài)
分析
(polarization analysis)可以作為一般光線追
跡
的進階功能。在模擬的過程中,會將入射光因為元件表面鍍膜、反射和吸收而造成的能量損耗納入考量。一般的情況下,OpticStudio可以對大多數(shù)的鍍膜或雙折射材料進行完整的
分析
。
2425
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術(shù)應用專題:利用Kogelnik方法模擬體積全像光柵的繞射效率
方程式(2)的符號約定,假設(shè)K的方向選擇滿
足
K.kp>0。 圖 2. (a) 兩到建構(gòu)
光束
折射到全像材料中 (b) 重建
光束
折射到體積全像中現(xiàn)在,我們考慮在全像中,由正弦調(diào)變來表示折射率n和α,如方程式(3)。其中n0為平均折射率,n1為折射率的振幅調(diào)製,K為光柵向量。透射和反射全像的繞射波和穿透波的TE(橫向電場)的偏振電場可以
用
以下4個公式計算。
2123
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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ZEMAX軟件技術(shù)應用專題:智慧型手機鏡頭模組
大多數(shù)都有多個相機單元,這對設(shè)計師和製造商提出了挑戰(zhàn),以滿
足
嚴格的性能、成本和尺寸要求。在這篇Blog中,我們將討論 Zemax 解決方案如何幫助
應
對和克服這些挑戰(zhàn)。智慧型手機鏡頭模組
用
於智慧型手機相機的鏡頭模組非常複雜,每個模組都包含多個鏡頭元件。追求更好的成像性能,加上需要模組盡可能小以增強手機的美感,需要復雜的設(shè)計形式。透鏡的形狀通常是高度非球面的。
2042
w**elab86_Swsp
??? 3年前
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